展会介绍
加利福尼亚先进的光刻会议和博览会SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY汇集了行业领袖解决光刻新挑战和模式在半导体行业,将于2018年2月25-3月1日在美国举办。
展会日期 | 2018-02-25 至 2018-03-01 |
展出城市 | 217-c0-qc0-y0-q0-k-k2-o2.html" target="_ |
展出地址 | 北美洲·美国 </Li> <Li> 展会展馆:<a href='/venue/sjcc.html' target='_blank'>San Jose McEnery会议中心</a> |
展馆名称 | San Jose McEnery会议中心 |
主办单位 | SPIE(国际光学工程学会) |
加利福尼亚先进的光刻会议和博览会SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY汇集了行业领袖解决光刻新挑战和模式在半导体行业,将于2018年2月25-3月1日在美国举办。
•光刻:浸泡、双图形,电子束,EUV,光学/激光,RET
•计量、检验、OPC、和过程控制
设计和制造软件
材料和化学物质
•成像设备
•激光器
抵抗材料和加工
•纳米压印
集成电路和芯片制造
•纳米成像
•nanopatterning蚀刻技术
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