日期:2018-02-25~2018-03-01
城市:217-c0-qc0-y0-q0-k-k2-o2.html" target="_
地址:北美洲·美国 </Li>
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展会展馆：<a href='/venue/sjcc.html' target='_blank'>San Jose McEnery会议中心</a>
展馆:San Jose McEnery会议中心
主办:SPIE（国际光学工程学会）
2018年加利福尼亚先进的光刻会议和博览会
2017-10-25 16:21 点击:2395
展会介绍
加利福尼亚先进的光刻会议和博览会SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY汇集了行业领袖解决光刻新挑战和模式在半导体行业，将于2018年2月25-3月1日在美国举办。
展品范围
•光刻：浸泡、双图形，电子束，EUV，光学/激光，RET
•计量、检验、OPC、和过程控制
设计和制造软件
材料和化学物质
•成像设备
•激光器
抵抗材料和加工
•纳米压印
集成电路和芯片制造
•纳米成像
•nanopatterning蚀刻技术